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      10L等离子清洗机 500W/1000W是一种小型化、非破坏性的清洗设备。该等离子清洗机采用低气压激...
    • 旋转涂覆仪
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    • 感应炉
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    • 晶体生长炉
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    • 1700℃管式炉
      1700℃管式炉采用高质量硅钼棒作为加热元件,加热温度可高达1700℃,炉管管径为50mm,采用高纯...
    • 磁控溅射镀膜仪
      桌面型磁控溅射镀膜仪...
      磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积
      双靶磁控溅射镀膜仪
      双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
      粉末磁控溅射镀膜仪
      粉末磁控溅射镀膜仪是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备,利用磁控溅射技术将粉末状的靶材转化为薄膜覆盖在基材上
      桌面型磁控溅射镀膜仪...
      磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积
    • 热蒸发镀膜仪
      桌面型有机源蒸发镀膜...
      热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中,材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能,从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面,并在那里凝聚形核生长成固相薄膜
      桌面型不锈钢腔体热蒸...
      热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中,材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能,从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出 。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面,并在那里凝聚形核生长成固相薄膜
      高真空双源热蒸发镀膜...
      高真空双源热蒸发镀膜仪适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜
      高真空电子束蒸发镀膜...
      电子束蒸发方式镀膜设备,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜
    • 高温熔炼炉
      1800度1Kg真空...
      1Kg真空感应熔炼炉是真空冶金领域中应用*广的设备之一。事实证明:宇航、导弹、火箭、原子能设备和电子工业所需要的合金和特殊钢
      超高温大容量非自耗型...
      超高温大容量非自耗型真空电弧炉是我公司根据科研单位实验要求精心研发设计的一款主要用于:熔炼难熔金属及合金,可进行冶炼、提纯、脱氧、除杂等
      镍钴合金中频感应熔炼...
      中频感应熔炼炉功能全 面、熔炼快速、使用方便、节能环保,非常适合实验室进行金属样品研究。广泛应用于大专院校及科研单位等在真空或保护气氛条件下对金属材料(如 不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等)的熔炼处理和制备,也可进行合金钢的真空精炼处理及精密铸造
      中频真空感应熔炼炉
      中频真空感应熔炼炉是真空冶金领域中应用*广的设备之一。事实证明:宇航、导弹、火箭、原子能设备和电子工业所需要的合金和特殊钢,占有相当比例的产品是采用真空感应熔炼炉生产出来的,例如,镍基、钴基、铁基高温合金采用真空感应熔炼炉工艺熔炼时,其热加工性能和机械性能明显提高
    • 等离子镀膜仪
      换位自转等离子镀膜仪
      本型号等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验,本设备配备换位自转式样品台,用户可以在触控屏上实现一键换位,样品台可在两个靶位自由切换,本设备体积小巧造型美观功能强大,是实验室镀膜试验的*佳选择。
      三靶等离子溅射镀膜仪...
      本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高温,不易产生热损伤。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。本型号仪器还配有旋转样品台,能够有效的提升镀膜的均匀性。(本设备配有旋转加热样品台,可以提升镀膜的均匀性和薄膜的附着力)该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。设备体积小巧造型美观,是实验室镀膜试验的*佳选择。
      三靶等离子溅射镀膜仪...
      本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高温,不易产生热损伤。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。本型号仪器还配有旋转样品台,能够有效的提升镀膜的均匀性。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。设备体积小巧造型美观,是实验室镀膜试验的*佳选择。
      三靶等离子溅射镀膜仪...
      本型号小型等离子溅射仪,采用二级溅射方式,广泛用于SEM样品制备或金属镀膜试验。采用低温等离子体溅射工艺,镀膜过程中无高温,不易产生热损伤。该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。本型号仪器还配有旋转样品台,能够有效的提升镀膜的均匀性。(本设备配有旋转样品台,可以提升镀膜的均匀性)该小型等离子溅射仪使用PLC控制系统,全部触摸屏操作,便于学习使用。设备体积小巧造型美观,是实验室镀膜试验的*佳选择。
    • 可编程匀胶机
      全自动匀胶机旋涂仪
      旋涂仪是一种实验室设备,主要用于制备薄膜材料,其应用范围包括制备太阳能电池,制备金属、半导体、氧化物、聚合物等材料的薄膜,制备纳米材料、纳米结构、纳米薄膜等
      12寸防腐匀胶机旋涂...
      12寸防腐匀胶机旋涂仪可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域
      亚克力八英寸匀胶机带...
      匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域
      净化旋涂仪带加热台
      净化型匀胶机广泛用于半导体硅片的匀胶镀膜等,例如对大型晶圆、芯片、晶片等进行工艺制版时,可用此设备进行各种胶体的表面涂覆或光刻工艺匀胶; 是集成电路及半导体器件生产过程中涂覆匀胶的专用设备 。该设备中涂胶部分含有两个工位的匀胶台,可分别独立工作,也可两台同时工作
    • 涂布机
      1000mm真空加热...
      涂布机是一种广泛应用于制造业中的机器设备,主要用于薄膜、纸张、布料等材料的表面涂布工艺生产
      间歇式锂电池涂布机
      间歇式锂电池涂布机本着方便研究者使用,同时满足涂布精度和一致性无异于生产的要求设计,烘干效果优异,是锂离子电池、超级电容、镍电池以及其他二次电池研发的理想之选
      实验室自动卷对卷涂布...
      实验室自动卷对卷涂布机是近年来发展起来的一种新兴的实验室仪器。 是电气控制与机械有机结合的一次成功**。 在涂料生产领域,可节省大量原材料,提高生产工艺; 关键是在实验的基础上,涂层的重现性大大提高。 专为高校、科研院所、企业实验室的电池材料研发和材料检测而设计制造
      锂离子电池狭缝挤出型...
      狭缝挤出型涂布机,可进行连续和间歇涂布等类型的涂布要求。设备涂布精度高,一致性稳定性好,广泛应用于锂离子电池、石墨烯薄膜、光学薄膜、陶瓷薄膜、**胶带以及各种功能薄膜行业
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